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磁控溅射系统

仪器名称:磁控溅射系统

规格型号:JGP-560

分  类:其他

应用领域:物理学  

所属单位:河北北方学院

来  源:河北省大型科研仪器设备资源开放共享服务平台

产  地:中国

厂  商:中科院沈阳科学仪器研制中心有限公司

价  值:143.4万

购置日期:2010-11-20

使用状态:

资源信息

主要技术指标

JGP-560,真空室尺寸:梨型真空室,真空系统配置:分子泵、机械泵、闸板阀,极限压力:≤2.0x10-5Pa (经烘烤除气后) ,恢复真空时间:40分钟可达到6.6x10-4Pa (系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气),样品尺寸:Ф65mm,可放置4片,加热基片加热最高温度:500°C±1°C 。

主要功能/应用范围

用于单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备,广泛的应用于高等院校、科研院所的薄膜材料科研。

服务内容

用于开展ZnO等薄膜的实验制备

服务的典型成果

对外开放共享规定

科研合作共享

参考收费标准

不收费

联系信息
仪器联系人: 王延峰 联系电话: 0313-4029189
电子邮箱: 传  真:
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