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卷绕式磁控溅射薄膜沉积系统

仪器名称:卷绕式磁控溅射薄膜沉积系统

规格型号:MSP-6100F

分  类:电子产品通用工艺实验设备

应用领域:物理学  

所属单位:河北大学

来  源:河北省大型科研仪器设备资源开放共享服务平台

产  地:中国

厂  商:北京创世威纳科技有限公司

价  值:66万

购置日期:2014-04-04

使用状态:

资源信息

主要技术指标

基材幅宽:350mm;极限真空:5×10-5 Pa;孪生磁控溅射靶,靶面尺寸550mm×80mm;张力控制范围0~100N,控制精度±2%;工件加热:加热温度450℃,控温精度±1℃;镀膜横向不均匀性:≤ 5%。

主要功能/应用范围

可在柔性基材上利用磁控溅射技术实现卷对卷连续镀膜。

服务内容

待定

服务的典型成果

暂无

对外开放共享规定

暂无

参考收费标准

暂无

联系信息
仪器联系人: 于威 联系电话: 0312-5079354
电子邮箱: yuwei@hbu.edu.cn 传  真:
评价信息